90 nanômetros (90 nm) refere-se a um processo ao nível da tecnologia CMOS , que foi alcançado no período 2004-2005, pela maioria das principais empresas de semicondutores, como Intel, AMD, Infineon, Texas Instruments, IBM, e TSMC.
A origem dos 90 nm tem valor histórico, pois reflete uma tendência de 70% de redimensionamento do processo de construção a cada 2-3 anos. A nomeação é formalmente determinados pelo International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).
Ainda mais significativamente,um wafer de 300mm do tamanho tornou-se o carro chefe na década dos CI's de 90 nm. Anteriormente o tamanho da bolacha era 200 mm de diâmetro.
Exemplo: Elpida 90 nm DDR2 SDRAMElpida's presentation at Via Technology Forum 2005 and Elpida 2005 Annual Report Usa um wafer de 300mm de tamanho Uso de KrF (248 nm) litografia com correção óptica de proximidade 512 Mbit 1.8 V Derivado do anterior 110 nm e 100 nm processos
Ver também Fotolitos
Referências
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