miniatura|200x200px|Figura 1 - "Entintar" un segell. El segell PDMS amb patró es col·loca en una solució d'etanol i ODT (octadecanetiol). En tecnologia, la litografia suau és una família de tècniques per fabricar o replicar estructures utilitzant "segells elastomèrics, motlles i fotomàscares conformables". S'anomena "suau" perquè utilitza materials elastomèrics, sobretot PDMS. miniatura|200x200px|Figura 2 - L'ODT de la solució s'estableix al segell PDMS. Ara el segell té un ODT que actua com a tinta. La litografia suau s'utilitza generalment per construir característiques mesurades a escala de micròmetre a nanòmetre. Segons Rogers i Nuzzo (2005), el desenvolupament de la litografia suau es va expandir ràpidament entre 1995 i 2005. Les eines de litografia suau ara estan disponibles comercialment. miniatura|216x216px|Figura 3 - El segell PDMS amb l'ODT es col·loca sobre el substrat daurat. Quan s'elimina el segell, l'ODT en contacte amb l'or es queda enganxat a l'or. Així, el patró del segell es transfereix a l'or mitjançant la "tinta" ODT.
Tipus Segell PDMS. Impressió de microcontacte. Litografia suau multicapa. Litografia de nanosfera.
Avantatges La litografia suau té alguns avantatges únics sobre altres formes de litografia (com ara la fotolitografia i la litografia de feix d'electrons). Inclouen els següents:
Menor cost que la fotolitografia tradicional en producció massiva. Molt adequat per a aplicacions en biotecnologia. Adequat per a aplicacions en electrònica plàstica. Adequat per a aplicacions que impliquen superfícies grans o no planes (no planes). Més mètodes de transferència de patrons que les tècniques tradicionals de litografia (més opcions de "tinta"). No necessita una superfície fotoreactiva per crear una nanoestructura. Detalls més petits que la fotolitografia en entorns de laboratori (~30 nm vs ~100 nm). La resolució depèn de la màscara utilitzada i pot arribar a 6 nm. miniatura|Imatge Sarfus d'estreptavidina dipositada per litografia suau amb segell PDMS.
Referències
Categoria:Litografia