Grubość uzyskanej warstwy fotorezystu zależnie od metody nakładania zależy od kilku czynników wśród, których można wymienić: lepkość roztworu – zależy głównie od stopnia rozcieńczenia (stężenia polimeru w rozpuszczalniku). Im większa lepkość tym grubsze są uzyskiwane warstwy; szybkość wirowania – im większa szybkość wirowania tym cieńsza jest uzyskiwana warstwa. Zwykle przy prędkościach poniżej 500 obr./min. spada znacząco jednorodność pokrycia, a powyżej 6000-8000 obr./min. zmiany w grubości warstwy stają się małe; czas wirowania – im dłuższy tym cieńsza warstwa (do momentu kiedy odparuje większość rozpuszczalnika); czas rozpylania – im dłuższy tym grubsza warstwa; szybkość wysuwania próbki w metodzie zanurzeniowej; nasycenie parami rozpuszczalnika środowiska, w którym nakładany jest fotorezyst – pozwala wydłużyć czas parowania rozpuszczalnika i utrzymać niższą lepkość fotorezystu. Bardziej stabilne warunki oznaczają także bardziej powtarzalne wyniki; temperatura – wpływa na lepkość fotorezystu i szybkość parowania rozpuszczalnika (zwykle różnice 1–2 °C uznaje się za nieznaczące); urządzenie – rodzaj wykorzystanego urządzenia (np.otwarta/zamknięta komora i jej wielkość) wpływa na środowisko w jakim jest nakładany fotorezyst.