Warstwy natryskiwane plazmowo cechują się strukturą niejednorodną, dlatego ich właściwości różnią się od tych, spotykanych w materiałach wytwarzanych innymi technologiami. Ich gęstość wynosi od 85 do 93% teoretycznej gęstości tego samego materiału w ciekłym stanie skupienia. Mikroporowatość jest często spotykanym zagadnieniem w natryskiwanych warstwach.

Rodzaje natryskiwania plazmowego Natryskiwanie plazmowe może być realizowane przez:

Natryskiwanie plazmowe w atmosferze otoczenia – APS (), gdzie strumień plazmy wychodzi z palnika do środowiska atmosferycznego. Natryskiwanie plazmowe w atmosferze kontrolowanej – CPS (), gdzie strumień wychodzi na zewnątrz do komory zapewniającej kontrolowaną atmosferę np. w celu uniknięcia ekspozycji na działanie tlenu. W komorze zazwyczaj znajduje się argon – gaz obojętny. Niskociśnieniowe lub próżniowe natryskiwanie plazmowe – LPPS () lub VPS (), gdzie strumień wychodzi z palnika do komory niskiego ciśnienia, które wynosi w zakresie 10-30 kPa.

Zobacz też napylanie w polu magnetycznym

Przypisy

Kategoria:Technologia