Napylanie w polu magnetycznym – metoda fizycznego osadzania warstw z fazy gazowej (PVD, z ang. physical vapour deposition). Proces polega na nanoszeniu na modyfikowanej powierzchni nośnika filmu zbudowanego z rozpylonych w polu magnetycznym jonów pochodzących z powierzchni materiału źródła.
Mechanizm thumb|Napylanie w polu magnetycznym W procesie wykorzystuje się oddziaływanie naładowanych cząstek (jonów oraz elektronów) z polem magnetycznym. Strumień jonów generowany jest w wyniku bombardowania powierzchni źródła cząstkami zjonizowanego gazu (najczęściej argonu) powstałego w wyniku przyłożenia napięcia pomiędzy powierzchnie nośnika i źródła.
Zastosowanie Metoda osadzania warstw w polu magnetycznym stosowana jest głównie w przemyśle materiałów półprzewodnikowych, gdzie wykorzystuje się ją do produkcji cienkich filmów o ściśle kontrolowanym poziomie domieszkowania. Przemysł optyczny wykorzystuje osadzane cienkie filmy jako powłoki antyrefleksyjne charakteryzujące się znaczną twardością.
thumb|Wpływ pola magnetycznego na ruch cząstek naładowanych w próżni
Odmiany metod napylania w polu magnetycznym Napylanie za pomocą wiązki jonów (ang. ion-beam sputtering) Napylanie reaktywne (ang. reactive sputtering) Osadzanie jonowe (ang. ion-assisted deposition) Wysoko wydajne napylanie plazmowe (ang. high-target-utilization sputtering) Napylanie w strumieniu gazu (ang. gas flow sputtering)
thumb|Działo magnetronowe z materiałem źródłowym
Zobacz też
natrysk plazmowy
Kategoria:Inżynieria powierzchni Kategoria:Fizyka ciała stałego Kategoria:Materiały półprzewodnikowe Kategoria:Produkcja półprzewodników